NIMS ナノシミュレーション ワークショップ 2019
NIMS ナノシミュレーション ワークショップ 2019
2019年12月11日（水） 10:30 - 16:00（予定）
学術総合センター （竹橋） 2F 一橋大学 一橋講堂 中会議場
物質・材料研究機構（NIMS）では、東京大学生産技術研究所革新的シミュレーション研究センターと協力して、ナノ物質・材料、次世代半導体、有機・バイオ分子などの研究開発のために、第一原理電子状態計算を中心とする物性解析、機能解析、大規模解析、マルチスケール解析等のシミュレーションソフトウェアの開発を進めています。これらのソフトウェアは一般に公開され多くのユーザに利用されています。
ソフトウェアの今後の更なる発展のために、ユーザ同士およびユーザ・開発者間の情報交換の場として、ユーザコミュニティのためのポータルサイトを公開・運用しております。このユーザコミュニティの形成、ユーザとの交流の一環として、昨年に引き続きNIMSナノシミュレーションワークショップ2019を開催いたします。
ご関心をお持ちの多くの方にご参加いただきますよう、ご案内申し上げます。
参加申し込みはこちら
ワークショップ当日、「印刷用プログラム」を印刷し、ご持参ください。学術総合センター入館の際、「印刷用プログラム」または「写真入りの身分証」のご提示をお願いいたします。
ワークショップ開催概要 ：
| 主催 |
国立研究開発法人 物質・材料研究機構 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点 PHASEシステム研究会、特定非営利活動法人 物質材料科学ソフトウェア研究会 高効率電子デバイス材料研究コンソーシアム |
| 後援 | 東京大学生産技術研究所革新的シミュレーション研究センター |
| 会場 |
学術総合センター（竹橋） 2F 一橋大学 一橋講堂 中会議場3,4 東京都千代田区一ツ橋2-1-2 |
| 参加費 | 無料 |
| 参加申込み |
下記参加申込みページからお申し込みください 2019年12月4日（水） 締切 （会議当日も受付にて参加可能です） |
| 問い合せ先 |
物質・材料研究機構 MANAナノセオリー分野 |
プログラム ： 印刷用プログラム 講演概要集
| はじめに | |
| 10:30-10:35 | ご挨拶 大野隆央（物材機構) |
| PHASEの紹介 | |
| 10:35-11:00 | PHASEシステムの概要・機能の紹介および開発状況 (開発版の紹介) 奈良純 (物材機構) |
| 研究トピックス | |
| 11:00-11:30 | 同時スパッタリング法によるMg2SiSn系薄膜の形成と電気伝導特性 勝俣裕、布施翔太郎 (明治大学) |
| 11:30-12:00 | 二酸化チタン表面における水素吸着・拡散とポーラロン形成 長塚直樹 (東京大学) |
| 12:00-12:30 | <窒素ドープグラフェンモデル触媒における酸素吸着状態 武安光太郎、古川萌子、下山雄人、Singh Santosh、中村潤児 (筑波大学) |
|
昼食 12:30-13:30 ＜ポスター＞ ・Si(001)表面における酸素分子の吸着状態 門脇菜穂（和歌山大学） ＜企業展示＞ ・日本電気株式会社
|
|
| 研究トピックス | |
| 13:30-14:00 | 2次元物質のバンド構造： 群論に基づく解析 斎藤峯雄 (金沢大学) |
| 14:00-14:30 | (ZnO)1-x(InN)xの初期成長過程 小田将人 (和歌山大学) |
| 14:30-14:50 | hBNで表面を覆われたCu(111)面でのグラフェン成長初期過程の理論検討 影島博之 (島根大学) |
| 14:50-15:10 | 4H-SiCのO2酸化プロセスの第一原理分子動力学解析 山崎隆浩 (物材機構) |
| 15:10-15:30 | SX-Aurora TSUBASAの特長と活用事例のご紹介 岩田直樹 (NEC) |
| 総合討論 | |
| 15:30-15:45 | 【総合討論・ユーザー会】 PHASEへの要望・質問、各講演への質問など |
| おわりに | |
| 15:45-15:50 | ご挨拶 大野隆央（物材機構） |